山東晶升電子科技有限公司

立式CVD

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立式CVD
簡介 : 本設備采用的mist-CVD是一種新型的薄膜制備技術,具有節能,安全,設備簡單,便宜,易操作等優點.
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產品詳情

一、 技術要求:

1、 最高溫度1000℃,使用溫度600度,升溫速率**12℃/min

2、 爐體下方石英管露出100mm,上方露出150mm

3、 三段加熱,恒溫區長度150mm

4、 恒溫區控溫精度±1

5、 石英尺寸內徑70mm,壁厚4mm,外徑78mm,長度800mm

6、 上升降搖輪滾珠絲杠400mm

7、 上提拉搖輪滾珠絲杠150mm**

8、 下搖輪升降行程400mm

9、 石英管兩端膠圈密封

10、 兩路MFC進氣:

11、    N2/O2:1L/min

12、    氮氣:5L/min

13、 12 源罐材質:源管體積150ml